МЕНЮ САЙТА
Категории раздела
поиск
погода
|
Форма входа
Телефоны
"Антенна Плюс"
ул.Кирова,28
8-924-415-0506
Специалист по радиодеталям
доставка под заказ8-914-183-0844
Бухгалтер
8-914-178-1789
WhatsApp
+7-914-178-1789
+7-914-183-0844
e-mail
Ремонт телевизоров
На дому у заказчика. Качество.
8-914-774-0382
(LG,GoldStar,AVEST и др.)
Статистика
» Витрина » Радиодетали » Разное » Фоторезист пленочный негативный ширина 300мм (0.5
| Фоторезист пленочный негативный ширина 300мм (0.5м) Предназначен для применения в радиоэлектронной промышленности, в частности, для формирования электропроводящих слоёв печатных плат по негативной и позитивной технологии, для реализации фотолитографических процессов с последующим химическим травлением и гальваническим осаждением металлов в производстве интегральных схем. Производится методом полива на лавсановую основу с последующим ламинированием полиэтиленовой пленкой. Поставляется в рулонах шириной 300 мм длиной по 70 м. Фоторезист "ПФ", сохраняя все достоинства известных аналогов, имеет ряд преимуществ, которые позволят Вам получать вертикальный профиль проявления практически при любых толщинах слоев с высокой разрешающей способностью, не зависящей от мощности источника УФ-излучения (возможность формирования рельефа с размером 40 мкм с использованием УФ - ламп мощностью > 250 Вт). Использование сухого плёночного фоторезиста позволит Вам достигнуть высокой технологической устойчивости процесса. Технические характеристики Толщина светочувствительного слоя, мкм 25, 30, 40, 45, 50 Толщина лавсановой основы, мкм 20 Толщина полиэтиленовой пленки, мкм 40 Эффективное время экспонирования от источника ДРТГ -3000 в области 320-420 нм, сек 60 - 120 Разрешающая способность, мкм 60 - 80 Стойкость экспонированного слоя в растворах с рН до 10 при Т=18-28°С, мин. 1 и более Фоторезист стоек при гальваническом осаждении металлов из электролита с рН менее 7. Рекомендации по применению: Нанесение фоторезиста проводится на стандартном оборудовании - ламинаторах различного типа, в соответствии с инструкциями по их использованию. Экспонирование проводится на установках с ультрафиолетовым источником света любой мощности. После экспонирования заготовки могут выдерживаться до 30 мин. без ухудшения качества проявления. Проявление проводится в 1-2% растворе кальцинированной соды при температуре 18-28°С с последующей промывкой холодной водой, сушкой сжатым воздухом и добавочной сушкой в шкафу при температуре 70-80°С в течение 15-20 мин. Удаление производится в 5-20% водном растворе гидроксида калия, гидроксида натрия или 3-5% водным раствором аммиака. | |
 | |
| Просмотров: 661 | |
